干冰清洗機機制為了提高清潔效果,在氣體射流中加入細顆粒作為研磨介質;這個過程被稱為噴砂。金屬氧化物以及有機化合物可用作研磨介質。然而硬質研磨介質在撞擊清潔物體的易碎表面后會造成損壞。特別是應該避免精確清潔。需要在表面上使用軟質材料流動的清潔系統(tǒng)去除較小的顆粒。二氧化碳是合適的軟質材料,因為它在極其干凈的條件下可用,含有干冰顆粒的射流可以通過兩種方法生產。一種方法是在單獨的生產過程中提供預制的干冰顆粒然后將它們添加到壓縮空氣流中。
可以用噴嘴進一步加速混合流動。另一種方法是通過噴嘴直接膨脹液態(tài)二氧化碳。后者更簡單,更方便訪問;因此,它通常用于工業(yè)應用。當清潔表面時,在撞擊射流中滯留區(qū)域中的空氣動力學阻力通常較弱,并且不能容易地去除附著在表面上的顆粒。然而,它們可以通過干冰顆粒的碰撞有效地去除,因為它提供了足夠的動量傳遞。干冰清洗,即氣態(tài)二氧化碳和干冰顆粒的氣固兩相射流,能夠去除顆粒污染物和有機殘留物。
由于干冰顆粒在沖擊后會升華為二氧化碳氣體,因此干冰顆粒不會沉積;但是,應考慮二氧化碳中的雜質。為了評估干冰清洗的清潔效果,顯示壓力和時間之間關系的抽空曲線已用于清潔真空部件。通常采用粘附在表面上的顆粒的初始數密度與清潔后殘留顆粒的數密度之間的比較來直接評估顆粒污染物的清潔效果。利用場發(fā)射掃描顯微鏡結合高分辨率二次電子顯微鏡和能量色散X射線分析來研究干冰清洗后Cu和Nb表面的場發(fā)射性質。
為了評估有機污染物的清潔效果,X射線光電子能譜已被用于分析清潔前后有機污染物的組成。Hills表明,薄膜有機污染物的去除效率很大程度上取決于有機薄膜在液態(tài)CO2中的溶解度。干冰清洗也被引入大氣等離子噴涂,并顯示出有效改善金屬,合金和陶瓷涂層的性能。
與大多數關注連續(xù)干冰清洗清潔效果的研究不同,通過使用一種用于系統(tǒng)設計的統(tǒng)計方法,證明了用于去除互補金屬氧化物半導體圖像傳感器表面上的顆粒的脈沖干冰清洗系統(tǒng)的優(yōu)化。結果,可以實現(xiàn)干冰清洗系統(tǒng)中較少的CO 2消耗。在這種優(yōu)化中沒有考慮液態(tài)CO2的物理性質;然而,提到液態(tài)CO2源的輸入壓力可能會影響清潔效果。
全自動干冰清洗機干冰清洗的噴嘴設計和系統(tǒng)表征干冰清洗裝置中的粒度控制干冰顆粒的大小和濃度將對應用產生很大影響。干冰顆粒的形成取決于溫度,壓力和射流條件。這些因素與擴展儀器的設計有關;因此必須精確控制操作條件以滿足各種應用需求。已經研究了膨脹噴嘴的設計以有效地生產初級干冰顆粒等。提出了一種包括多個膨脹噴嘴的特殊設備,其中聚結室連接在其間。
大液滴被認為是微小干冰顆粒的前體;因此,用于在進入第二孔之前產生大液滴的聚結室是重要的。將液態(tài)CO2從孔口擴散到隔熱室中以形成小的干冰顆粒,然后將小顆粒保留在腔室中,直到小顆粒聚集成大顆粒。在該過程中,與小的干冰顆粒相比,形成大的干冰顆粒有利于每單位時間清潔更大的表面積。大的干冰顆粒不會像小的那樣迅速升華,從而能夠存活更長時間并沿更長和更寬的路徑去除更多的污染物。此外每個大的,快速移動的干冰顆粒比小的顆粒具有更多的動能,因此,更有效地去除附著在被清潔的基板表面上的污染物。然而,由于清潔對象非常脆弱,大的干冰顆粒的沖擊會損壞表面。
為了防止這個問題,斯特拉特福德提出了一種干冰清洗系統(tǒng),它提供了一種有用的,精細聚焦的干冰粒子束,其尺寸小于8.9毫米,空氣消耗量減少了一個數量級,并顯著降低了噪音。此外提出了一種介質噴射噴嘴,其包括介質尺寸改變器,以改變干冰顆粒的尺寸以清潔表面。當將初始一致尺寸的干冰顆粒引入介質噴射噴嘴時,顆粒與一個或多個介質尺寸改變構件撞擊,產生更細的顆粒。
在這里為大家介紹一款我們深圳市蘭琳德創(chuàng)科技有限公司的一款干冰清洗機。

這是一款用于清洗儀器/PCB電路板產品及塑膠產品的干冰清洗機,例如:焊錫渣、助焊劑、油漬、污垢、附著物、毛邊、披鋒等。
參數指標:
1、出冰方式:單管式。
2、干冰機類型:塊狀干冰(5kg)。
3、冰倉容量:5-10kg。
4、噴射壓力范圍:2-12bar。
5、額定電源:220V/50HZ/10A。
6、設備尺寸:長570mm寬400mm高510mm。
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